Accord de partenariat entre NanoGram et Tokyo Electron

NanoGram, un développeur et fabricant de solutions de pointe destinées aux applications optiques a annoncé aujourd’hui avoir signé un accord de développement commun avec Tokyo Electron Ltd (TEL).

Cet accord de partenariat aura pour objectif principal le développement d’outils perfectionnés de dépôt de couche mince basés sur le processus breveté de dépôt réactif au laser (LRD, laser reactive deposition) de NanoGram pour le silicium.

La plateforme ciblera le marché des composants photovoltaïques en couche mince, un secteur en pleine croissance, qui, selon les estimations de l’institut Prometheus devrait atteindre 40 % du marché total du PV d’ici 2012.

Le processus LRD de NanoGram possède un avantage certain en termes de vitesse car il permet de déposer du silicium amorphe et microcristallin bien plus rapidement qu’avec les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conventionnels. Le travail de développement devrait également venir compléter l’activité de modules PV multicristallins à faible coût SilFoil de NanoGram.

"Cette relation de plus grande ampleur avec TEL est très importante et passionnante pour nous car elle valide l’investissement initial de TEL dans NanoGram et le potentiel de notre technologie", a déclaré le président-directeur général de NanoGram, le docteur Kieran Drain. "L’expansion de cette relation va aider NanoGram à accélérer le développement de cette technologie en vue de capter la demande en outils de dépôt de silicium plus rapides."

"Nous sommes très heureux de notre investissement dans NanoGram et à présent ce développement technologique commun renforce notre relation et crée de nouvelles opportunités sur des marchés clés et des marchés cibles", a pour sa part déclaré Mike Yamaguchi, président de TEL Venture Capital.

Cette annonce a lieu alors que NanoGram a reçu le prix "innovateur en énergie", décerné par le ministère américain de l’efficacité énergétique et des énergies renouvelables, pour son produit photovoltaïque multicristallin SilFoil. La société prévoit qu’une capacité de 5 MW sera en production d’ici fin 2009.

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