Tranches photovoltaïques sans trait de scie de 150 um

Silicon Genesis**, a annoncé mardi le commencement de la production des tout premiers substrats de cellule solaire 150 um sans trait de scie dans sa nouvelle usine de production pilote et de développement solaire.

Située à San Jose, en Californie, l’usine couvre plus de 4 645 mètres carrés d’espace spécialement conçu pour contenir l’équipement de fabrication à grand volume pilote et prototype PolyMax de la société.

La chaîne pilote de SiGen a commencé à produire des tranches pleine dimension de 125 mm et de 150 um d’épaisseur et va bientôt fabriquer des tranches de 156 mm.

La chaîne pilote étendue sera utilisée pour produire des échantillons de substrats et développer l’équipement de fabrication à grand volume PolyMax pour convertir avec efficacité les lingots de silicium en tranches de silicium minces de 150 um à 50 um d’épaisseur.

Son installation dans une plus grande usine va permettre à la société d’accélérer encore plus la production de substrats thin-PV PolyMax innovants. SiGen vise ainsi la mise en production d’échantillons de la chaîne pilote pour le printemps 2009.

Tranches photovoltaïques sans trait de scie de 150 um

La production de tranches de 150 um d’épaisseur va entraîner une adoption immédiate par les fabricants de cellules PV qui utilisent l’automatisation et les procédés existants. La nature sans trait de scie du système PolyMax entraînera des économies de coût de premier ordre en termes de fabrication cellulaire et réduira de moitié les matières premières de silicium requises pour fabriquer la même quantité de capacité MW par an.

Tranches photovoltaïques sans trait de scie de 150 um

"La fabrication de tranches de 150 um par la nouvelle chaîne pilote, alliée à une capacité de production accrue, est une étape déterminante dans notre stratégie de croissance. Le lancement de tranches non sciées va entraîner une réduction de coûts majeure à travers l’ensemble de la chaîne de valeur PV. Nous estimons que cette méthode va être tellement efficace pour réduire le coût du PV monocristallin à haut rendement qu’elle va inverser l’adoption de la technologie couche mince", a déclaré François Henley, président-directeur général.

[CREDIT PHOTOS : Silicon Genesis]

** leader dans le domaine du traitement et de la technologie destinés à la technique des substrats. La société a produit des tranches de 50 um d’épaisseur dans un site différent pour ses travaux d’élaboration des procédés et de caractérisation des échantillons. Le concept du système PolyMax et les résultats des substrats de 50 um ont été présentés à la 23e Conférence photovoltaïque européenne qui a eu lieu récemment à Valence, en Espagne.

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