Un nouveau système de dépôt de couches atomiques ALD

Arradiance a annoncé lundi le lancement de son nouveau système de dépôt de couches atomiques (ALD) puissant de format paillasse, GEMStar™, à l’occasion de la réunion annuelle sur le dépôt de couches atomiques organisée par l’American Vacuum Society à Séoul, en Corée.

Le Dr Philippe de Rouffignac, principal scientifique des matériaux chez Arradiance, a été invité à s’exprimer sur le sujet : « l’ALD du SnO2 comme composant actif d’un détecteur direct à neutrons rapides en plastique basé sur microcanal ». Le GEMStar peut être utilisé pour déposer de fines couches de matériau sur quasiment n’importe quel substrat ; "Il a été conçu avec le ratio d’aspect élevé le plus exigeant et en ayant tenant compte des applications de dépôt dans les pores."

Le système GEMStar intègre la capacité de traiter des wafers de 15 cm ou des solides jusqu’à 2,54 cm de profondeur, avec l’espace nécessaire pour 8 précurseurs au maximum, dans un format minuscule de 78 x 61 x 28cm, sans sacrifier la maintenabilité ni la qualité de film. Le système comporte également un port pour dispositif de métrologie in situ optionnel, une fonction optionnelle d’assistance azote, une capacité d’utiliser des précurseurs chauffés et une valve MFC embarquée.

« A partir de notre travail avec des structures microcanal sensibles à ratio d’aspect élevé, nous avons réellement pris conscience de la nécessité de disposer d’un système dans lequel il nous est possible de déposer des films de nanolaminates complexes de manière répétitive, uniforme et efficace », a expliqué le Dr de Rouffignac. « En discutant avec des acteurs majeurs du secteur, nous avons également compris que la taille du système, son prix, sa flexibilité concernant les dimensions de wafer et la disponibilité de précurseur constituent également des critères essentiels pour répondre aux besoins du marché de la R&D ».

« Nous avons appris à partir de nos propres applications qu’une conception uniforme et le contrôle des paramètres sont fondamentaux pour la réussite du développement. Notre réacteur unique, le manifold précurseur chauffé et le système de fourniture de gaz multicanal, avec des commandes de chauffage de précurseur individuelles, nous confèrent la puissance et la flexibilité nécessaires pour traiter tout film complexe » a ajouté David Beaulieu, Directeur général d’Arradiance.

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1 Commentaire sur "Un nouveau système de dépôt de couches atomiques ALD"

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christian
Invité
Bien sûr, c’est formidable, de réduire la taille des réacteurs, l’épaisseur des couches déposées, les quantités de matières utilisées. Mais que je sache, les précurseurs continuent d’êtres conditionnés en cylindres de plusieurs litres pour le TMT par exemple (pour le SnO2 cité), et de plusieurs dizaines de litres pour l’azote, l’hydrogène, l’oxygène. Un mini réacteur, et de méga-bobonnes… Sans parler des évents et des filtres en sortie, car, rassurez-moi, il y a bien un filtre en sortie, non ? Et, puisqu’il s’agit de faire de la R&D, quand on passe d’un test à l’autre, on le nettoie comment ? Parce… Lire plus »
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