Cette annonce est doublement surprenante : d’une part la puissance annoncée est 3 fois supérieure à la puissance totale annuelle américaine actuelle ; D’autre part, il s’agit d’une production basé sur une technologie émergente de type film en couche mince alors que 99% de la production photovoltaïque mondiale est basé sur le silicium. Cette technologie de film en couche mince (CIGS ou CIS) n’est pas nouvelle cependant Nanosolar a développé une méthode innovante d’impression semblable à celle employée pour imprimer les journaux. Jusque là, la méthode classique reposait sur une technique de déposition sous-vide qui nécessite un matériel sophistiqué et coûteux. Nanosolar annoncera dans quelques semaines le site choisi, San Jose, Santa Clara ou San Francisco, pour l’implantation de l’usine. |
| http://www.bulletins-electroniques.com/actualites/34579.htm |
| Cette information est un extrait du BE Etats-Unis numéro 43 du 13/07/2006 rédigé par l’Ambassade de France aux Etats-Unis. Les Bulletins Electroniques (BE) sont un service ADIT et sont accessibles gratuitement sur www.bulletins-electroniques.com |
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