L’usine produira des cellules photovoltaïques en couches minces utilisant de grandes dalles mère de 1 000 X 1 400 mm. La structure de ces cellules en couches minces est obtenue par l’accumulation de fines couches de silicium sur un panneau de verre, ce qui permet une réduction drastique de la quantité de silicium utilisée à approximativement un centième de celle nécessaire à la fabrication des cellules photovoltaïques cristallines.
Les processus de fabrication simplifiés permettront de fait, de réduire les coûts de production. Ainsi la stabilité de la demande de cellules en couches minces, destinées particulièrement à la production d’électricité photovoltaïque à grande échelle, à été maintenue partout dans le monde.
Lors de sa phase initiale, la capacité de production estimée sera de 160 MW par an. Le site de SAKAI servira également de modèle pour toutes les autres usines Sharp du monde.
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