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Structural configuration of a hydrogen atom within a diamond crystal

Configuration structurelle d'un atome d'hydrogène dans un cristal de diamant (Crédit : Mitsubishi Electric, Institut des sciences de Tokyo, Université de Tsukuba et Quemix)

Le mécanisme de génération d’électrons libres par l’hydrogène dans le silicium élucidé pour la première fois

par La rédaction
30 janvier 2026
en Industrie énergie, Technologie

Le professeur associé Yuichiro Matsushita du Laboratoire des Matériaux et Structures de l’Institut des Sciences de Tokyo, Mitsubishi Electric Corporation, le professeur associé Takahide Umeda de l’Institut des Sciences Pures et Appliquées, Université de Tsukuba et Quemix Corporation ont annoncé avoir réalisé la première élucidation au monde1 de la manière dont l’hydrogène produit des électrons libres2 via l’interaction avec certains défauts3 dans le silicium. Cette avancée a le potentiel d’améliorer la conception et la fabrication des transistors bipolaires à grille isolée (IGBT), les rendant plus efficaces et réduisant leurs pertes d’énergie. Elle ouvre également des perspectives pour les futurs dispositifs utilisant des matériaux à large bande interdite (UWBG).4

Dans la course mondiale vers la neutralité carbone, les efforts pour rendre l’électronique de puissance plus efficace et économe en énergie s’accélèrent à travers le monde. Les IGBT sont des composants clés responsables de la conversion de puissance, donc améliorer leur efficacité est une priorité majeure. Bien que l’implantation d’ions hydrogène soit utilisée depuis environ un demi-siècle pour contrôler la concentration en électrons dans le silicium, le mécanisme sous-jacent est resté obscur jusqu’à présent.

En 2023, Mitsubishi Electric et l’Université de Tsukuba ont conjointement découvert un complexe de défauts5 dans le silicium qui contribue à augmenter la concentration en électrons. Ils ont confirmé que ce complexe se forme lorsqu’une paire de silicium interstitiel et de l’hydrogène se lient, mais la raison pour laquelle de nouveaux électrons libres sont générés dans ce processus restait obscure.6 En utilisant des calculs computationnels avancés, les quatre organisations ont maintenant révélé comment l’hydrogène existe à l’intérieur du complexe de défauts. Ils ont également expliqué pourquoi l’hydrogène libère des électrons et comment ces électrons deviennent libres dans le silicium. De plus, leurs résultats suggèrent que ce mécanisme pourrait aussi s’appliquer au diamant, un matériau prometteur pour les futurs semi-conducteurs de puissance dont le contrôle des niveaux d’électrons est difficile.

Les détails complets de cette recherche ont été publiés en ligne le 13 janvier (heure de Londres) dans Communications Materials, une revue publiée par Nature Portfolio.

Caractéristiques

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1) Mécanisme par lequel un complexe de défauts contenant de l’hydrogène dans le silicium génère des électrons libres

Depuis près d’un demi-siècle, il a été rapporté que l’implantation d’ions hydrogène dans le silicium produit des électrons libres aux endroits où se trouvent les atomes d’hydrogène. Cette technique est maintenant utilisée pour former des couches de type n contenant des électrons libres à l’intérieur des semi-conducteurs de puissance comme les IGBT. Cependant, un atome d’hydrogène isolé dans le silicium ne libère pas nécessairement un électron libre,7 donc le mécanisme sous-jacent restait obscur.

Partant de l’hypothèse que l’hydrogène et les défauts cristallins agissent ensemble pour générer des électrons libres, la recherche conjointe de Mitsubishi Electric et de l’Université de Tsukuba a appliqué des mesures électriques et optiques ainsi que la résonance paramagnétique électronique (RPE).8 En 2023, ces travaux ont identifié le défaut I4 – une perturbation structurelle formée par des atomes de silicium supplémentaires insérés dans le cristal de silicium – comme étant impliqué dans la génération d’électrons libres. Pour clarifier le rôle de l’hydrogène, l’Institut des Sciences de Tokyo et Quemix ont effectué des calculs de premiers principes9 sur des modèles contenant des atomes d’hydrogène à plusieurs sites candidats autour du défaut I4 pour étudier la stabilité structurelle et les états électroniques10 résultants des complexes de défauts.

Les calculs ont montré que dans le silicium sans défaut, un atome d’hydrogène forme des états électroniques qui ne contribuent pas à la génération d’électrons libres. Cependant, lorsqu’un défaut I4 est à proximité, un atome d’hydrogène peut résider dans les positions centrales des liaisons11 entre atomes de silicium. Dans cette configuration, les états électroniques associés au défaut I4 se déplacent vers une condition favorable à la libération d’électrons. Dans une analyse plus poussée basée sur la théorie des orbitales moléculaires,12 le calcul computationnel indique un effet coopératif : un électron associé à un atome d’hydrogène se déplace vers le défaut I4, et le défaut I4 libère ensuite un électron qui fonctionne comme un électron libre. Cette synergie entre défaut et hydrogène explique la génération observée d’électrons libres.

Mécanisme par lequel l'hydrogène génère des électrons libres via une interaction avec le défaut dans le silicium
Mécanisme par lequel l’hydrogène génère des électrons libres via une interaction avec le défaut dans le silicium (Crédit : Mitsubishi Electric, Institut des sciences de Tokyo, Université de Tsukuba et Quemix)

2) Démonstration technique : Jusqu’à 20 % de réduction des pertes d’énergie dans les IGBT et diodes en silicium

Mitsubishi Electric a réduit les pertes d’énergie dans les IGBT et diodes en silicium en combinant l’implantation d’ions hydrogène pour la formation de couches de type n et la réduction de l’épaisseur des substrats en silicium. Par exemple, dans un dispositif de classe 1 200 V, l’entreprise a techniquement démontré des réductions de la perte de puissance totale de 10 % dans les IGBT et de 20 % dans les diodes par rapport à ses produits de 7e génération. Les connaissances fondamentales acquises sur la génération d’électrons libres liée à l’hydrogène, qui ont contribué à la présente élucidation du mécanisme, ont soutenu ces réductions de pertes.

3) Indication théorique de l’applicabilité aux matériaux UWBG

Des matériaux tels que le diamant et le nitrure d’aluminium (AlN) sont prometteurs pour les futurs semi-conducteurs de puissance et capteurs quantiques, mais leur mise en œuvre pratique a été entravée par l’extrême difficulté de contrôler la concentration en électrons via les méthodes conventionnelles. Pour examiner si le mécanisme de génération d’électrons libres lié à l’hydrogène trouvé dans le silicium pourrait fonctionner dans les matériaux UWBG, des calculs initiaux de premiers principes ont été effectués. Les résultats indiquent que dans le diamant – qui partage une structure cristalline covalente similaire au silicium – l’hydrogène est énergétiquement plus stable lorsqu’il est incorporé dans les liaisons entre atomes de carbone plutôt qu’en occupant les interstices. Lorsque des défauts appariés sont présents, cette incorporation au centre de liaison de l’hydrogène pourrait permettre au même type de mécanisme de fonctionner dans le diamant. Cette découverte suggère une voie possible pour aborder le contrôle de la concentration en électrons dans certains matériaux UWBG, du moins d’un point de vue fondamental.

Développements futurs

En appliquant ce mécanisme aux matériaux UWBG tels que le diamant, dans lesquels la concentration en électrons a traditionnellement été difficile à contrôler, cette approche vise à faire progresser le développement de dispositifs semi-conducteurs. Ceux-ci incluent les semi-conducteurs de puissance, les dispositifs haute fréquence et les capteurs quantiques, tous attendus pour contribuer significativement à la réalisation d’un monde neutre en carbone.  

1        Selon les recherches menées par Mitsubishi Electric au 14 janvier 2026.

2        Électrons qui peuvent se déplacer librement dans un cristal de silicium. Leur concentration est contrôlée par l’introduction intentionnelle d’impuretés spécifiques.

3        Imperfections structurelles qui affectent la mobilité et la recombinaison des électrons libres.

4        Diamant, nitrure d’aluminium, etc. Semi-conducteurs avec une bande interdite plus large que les semi-conducteurs conventionnels au silicium ou au carbure de silicium.

5        Un complexe de défauts composé de défauts intrinsèques – tels que des interstitiels de silicium – et de défauts extrinsèques, comme l’hydrogène. Dans les semi-conducteurs de puissance, de tels complexes de défauts sont intentionnellement créés pour contrôler les performances des dispositifs.

6        « How does hydrogen transform into shallow donors in silicon? », Phys. Rev. B 108, 235201 (2023).

7        Dans un silicium sans défaut, les atomes d’hydrogène se placent dans des positions connues sous le nom de sites tétraédriques ou sites centrés sur les liaisons, selon leurs états de charge où ils forment un état électronique qui ne peut pas générer d’électrons libres.

8        Une technique de spectroscopie utilisée pour détecter les électrons non appariés dans un champ magnétique.

9        Une méthode computationnelle qui prédit les propriétés des matériaux basée sur les lois de la mécanique quantique, sans s’appuyer sur des données expérimentales.

10      Le niveau d’énergie d’un état électronique est important pour contrôler la concentration en électrons, car si l’énergie thermique dépasse ce niveau, les électrons peuvent être excités thermiquement et devenir disponibles comme électrons libres.

11      Les liaisons dans un cristal sont les forces qui font que les atomes ou molécules maintiennent une structure cristalline spécifique, influençant les propriétés physiques du matériau telles que la dureté, la conductivité électrique et le point de fusion.

12      Une théorie utilisée pour comprendre l’agencement et les états énergétiques des électrons au sein d’une molécule.

13      Une méthode computationnelle basée sur la mécanique quantique qui traite la densité électronique comme une variable fondamentale et calcule les états électroniques pour prédire les propriétés des matériaux.

Article : Advancing N-type doping in semiconductors through hydrogen-defect interactions – Journal : Communications Materials – Méthode : Experimental study – DOI : Lien vers l’étude

Source : Institute of Science Tokyo

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Tags: electronhydrogènesilicium
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Associate Professor Yuichiro Matsushita of Materials and Structures Laboratory, Institute of Science Tokyo, Mitsubishi Electric Corporation, Associate Professor Takahide Umeda of Institute of Pure and Applied Sciences, University of Tsukuba and Quemix Corporation  announced that they have achieved the world’s first1 elucidation of how hydrogen produces free electrons2 through the interaction with certain defects3 in silicon. The achievement has the potential to improve how insulated gate bipolar transistors (IGBTs) are designed and manufactured, making them more efficient and reducing their power loss. It is also expected to open up possibilities for future devices using ultra-wide bandgap (UWBG) materials.4

In the global drive toward carbon neutrality, efforts to make power electronics more efficient and energy-saving are accelerating worldwide. IGBTs are key components responsible for power conversion, so improving their efficiency is a major priority. While hydrogen ion implantation has been used for about half a century to control electron concentration in silicon, the underlying mechanism has remained unclear until now.

In 2023, Mitsubishi Electric and University of Tsukuba jointly discovered a defect complex5 in silicon that contributes to increasing electron concentration. They confirmed that this complex is formed when an interstitial silicon pair and hydrogen bind, but the reason why free electrons are newly generated in this process was still unclear.6 By using advanced computational calculations, the four organizations have now uncovered how hydrogen exists inside the defect complex. They have also explained why hydrogen releases electrons and how these electrons become free within silicon. Furthermore, their findings suggest that this mechanism could also be applied to diamond, a promising material for future power semiconductors that is difficult to control in terms of electron levels.

The full details of this research were published online on January 13 (London time) in Communications Materials, a journal published by Nature Portfolio.

Features

1) Mechanism by which a hydrogen-containing defect complex in silicon generates free electrons

For nearly half a century, hydrogen ion implantation into silicon was reported to produce free electrons at locations where hydrogen atoms are present. This technique is now used to form n‑type layers containing free electrons inside power semiconductors such as IGBTs. However, an isolated hydrogen atom in silicon does not necessarily release a free electron,7 so the underlying mechanism remained unclear.

Starting from the hypothesis that hydrogen and crystal defects act together to generate free electrons, joint research by Mitsubishi Electric and University of Tsukuba applied electrical and optical measurements and electron spin resonance (ESR).8 In 2023, this work identified the I4 defect—a structural disturbance formed by extra silicon atoms inserted into the silicon crystal—as being involved in free‑electron generation. To clarify hydrogen’s role, Institute of Science Tokyo and Quemix performed first‑principles calculations9 to models containing hydrogen atoms at multiple candidate sites around the I4 defect to study the resultant structural stability and electronic states10 of defect complexes.

The calculations showed that in defect‑free silicon, a hydrogen atom forms electronic states that do not contribute to free‑electron generation. However, when an I4 defect is nearby, a hydrogen atom can reside in the center positions of bonds11 between silicon atoms. In that configuration, the electronic states associated with the I4 defect shift into a condition that favors electron release. In further analysis based on molecular orbital theory,12 the computational calculation indicates a cooperative effect: an electron associated with a hydrogen atom moves to the I4 defect, and the I4 defect then releases an electron that functions as a free electron. This synergy between defect and hydrogen explains the observed free‑electron generation.

 

2) Technical demonstration: Up to 20% reduction in power loss in silicon IGBTs and diodes

Mitsubishi Electric has been reducing power loss in silicon IGBTs and diodes by combining hydrogen ion implantation for n‑type layer formation and reducing the thickness of silicon substrates. For example, in a 1,200V-class device, the company has technically demonstrated reductions in total power loss of 10% in IGBTs and 20% in diodes compared with its 7th‑generation products. The fundamental insights gained on hydrogen‑related free‑electron generation, which contributed to the present mechanism elucidation, have supported these power‑loss reductions.

 

3) Theoretical indication of applicability to UWBG materials

Materials such as diamond and aluminum nitride (AlN) are promising for use in future power semiconductors and quantum sensors, but practical implementation has been hampered by the extreme difficulty of controlling electron concentration via conventional methods. To examine whether the hydrogen‑related free‑electron generation mechanism found in silicon could operate in UWBG materials, initial first‑principles calculations were performed. The results indicate that in diamond—which shares a covalent crystal structure similar to silicon—hydrogen is energetically more stable when incorporated into bonds between carbon atoms rather than occupying interstitial gaps. When paired defects are present, this bond‑center incorporation of hydrogen could enable the same kind of mechanism to function in diamond. This finding suggests a possible route to address electron‑concentration control in certain UWBG materials, at least from a fundamental perspective.

Future Development

By applying this mechanism to UWBG materials such as diamond, in which electron concentration traditionally has been difficult to control, this approach is aimed at advancing the development of semiconductor devices. These include power semiconductors, high-frequency devices and quantum sensors, all of which are expected to contribute significantly toward the achievement of a carbon-neutral world.

 

 

1        According to research conducted by Mitsubishi Electric as of January 14, 2026.

2        Electrons that can move freely within a silicon crystal. Their concentration is controlled by the intentional introduction of specific Impurities.

3        Structural imperfections that affect the mobility and recombination of free electrons.

4        Diamond, aluminum nitride, etc. semiconductors with a larger bandgap than conventional silicon or silicon carbide semiconductors.

5        A defect complex composed of intrinsic defects—such as silicon interstitials—and extrinsic defects, like hydrogen. In power semiconductors, such defect complexes are intentionally created to control device performance.

6        “How does hydrogen transform into shallow donors in silicon?”, Phys. Rev. B 108, 235201 (2023).

7        In a defect-free silicon, hydrogen atoms settle into positions known as tetrahedral sites or bond-centered sites, depending on their charge states where they form an electronic state that cannot generate free electrons.

8        A spectroscopy technique used to detect unpaired electrons in a magnetic field.

9        A computational method that predicts the material properties based on the laws of quantum mechanics, without relying on experimental data.

10      The energy level of an electronic state is important to control electron concentration, because if thermal energy exceeds this level, electrons can be thermally excited and become available as free electrons.

11      Bonds within a crystal are the forces that make atoms or molecules keep specific crystal structure, influencing the material’s physical properties such as hardness, electrical conductivity and melting point.

12      A theory used to understand the arrangement and energy states of electrons within a molecule.

13      A quantum mechanics-based computational method that treats electron density as a fundamental variable and calculates electronic states to predict the properties of materials.

***

About Institute of Science Tokyo

Institute of Science Tokyo (Science Tokyo) was established on October 1, 2024, following the merger between Tokyo Medical and Dental University (TMDU) and Tokyo Institute of Technology (Tokyo Tech), with the mission of “Advancing science and human wellbeing to create value for and with society.”

 

About Mitsubishi Electric Corporation

With more than 100 years of experience in providing reliable, high-quality products, Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO: 6503) is a recognized world leader in the manufacture, marketing and sales of electrical and electronic equipment used in information processing and communications, space development and satellite communications, consumer electronics, industrial technology, energy, transportation and building equipment. Mitsubishi Electric enriches society with technology in the spirit of its “Changes for the Better.” The company recorded a revenue of 5,521.7 billion yen (U.S.$ 36.8 billion*) in the fiscal year ended March 31, 2025. For more information, please visit www.MitsubishiElectric.com

*U.S. dollar amounts are translated from yen at the rate of \150=U.S.$1, the approximate rate on the Tokyo Foreign Exchange Market on March 31, 2025.

 

About University of Tsukuba

University of Tsukuba was established in October 1973, due to the relocation of its antecedent, the Tokyo University of Education, to the Tsukuba area. As the new concept comprehensive university in Japan to be established under a country-wide university reform plan, the University has featured “Openness” with “New Systems for Education and Research” under a “New University Administration.” The university reform plays a major role in our continuing effort for improvement. We are striving to create a unique, active, and internationally competitive university with superlative education and research facilities.

 

About Quemix Corporation

Quemix Inc., a consolidated subsidiary of TerraSky Co., Ltd. (Headquarters: Chuo-ku, Tokyo; CEO: Hideya Sato), conducts R&D in quantum computers, quantum sensors, and materials computation. Guided by its vision, “Realizing the Future Envisioned through Quantum Technology,” Quemix’s mission is to enable breakthrough innovations for companies leading the quantum era.

Since its establishment in 2019, Quemix has specialized in developing algorithms for Fault-Tolerant Quantum Computers (FTQC). The company developed and patented the Probabilistic Imaginary-Time Evolution (PITE®) algorithm, which has been mathematically proven to achieve quantum speedup in quantum chemistry calculations. As Japan’s pioneer in FTQC algorithms, Quemix aims to bring practical quantum computing applications to materials computation and simulation by 2028.

 

Media Inquiries

Mitsubishi Electric Corporation

Public Relations Div.

E-mail:prd.gnews@nk.MitsubishiElectric.co.jp

 

Institute of Science Tokyo

Public Relations Division,

E-mail:media@adm.isct.ac.jp

 

University of Tsukuba

Bureau of Public Relations

E-mail:kohositu@un.tsukuba.ac.jp

 

Quemix Corporation

TerraSky Co., Ltd. – PR Contact

E-mail:pr@terrasky.co.jp

 

Customer Inquiries

Mitsubishi Electric Corporation Advanced Technology R&D Center

https://www.MitsubishiElectric.com/ssl/contact/company/rd/form.html

https://www.MitsubishiElectric.com/rd/

Journal

Communications Materials

DOI

10.1038/s43246-025-00955-4

Method of Research

Experimental study

Subject of Research

Not applicable

Article Title

Advancing N-type doping in semiconductors through hydrogen-defect interactions

Article Publication Date

13-Jan-2026

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