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Une conductivité électrique record dans un nouveau matériau quantique

Esquisse artistique du porteur de charge le plus rapide jamais observé sur une plaquette de silicium (cs-GoS). Crédit : Maksym Myronov / University of Warwick

Une conductivité électrique record dans un nouveau matériau quantique

par La rédaction
26 novembre 2025
en Quantique, Technologie

Des scientifiques de l’Université de Warwick et du Conseil national de recherches du Canada ont réalisé et mesuré la plus haute « mobilité des trous » jamais enregistrée dans un matériau compatible avec le silicium.

La plupart des semi-conducteurs modernes sont fabriqués à partir de ou sur du silicium (Si), mais à mesure que les dispositifs deviennent plus petits et plus denses, ils dissipent plus de puissance et atteignent par conséquent leurs limites physiques. Le germanium (Ge), autrefois utilisé dans les premiers transistors des années 1950, fait aujourd’hui son retour alors que les chercheurs trouvent de nouvelles façons d’exploiter ses propriétés supérieures tout en conservant les avantages des technologies de fabrication établies du silicium.

Dans une nouvelle étude, une équipe dirigée par le Dr Maksym Myronov de Warwick a franchi une étape majeure vers la prochaine génération d’électronique créant un matériau utilisant une épicouche de germanium sous contrainte de compression de l’ordre du nanomètre sur silicium, qui permet à la charge électrique de se déplacer plus rapidement que jamais auparavant dans un matériau compatible avec la fabrication moderne de puces.

Maksym Myronov, Professeur associé et chef du Groupe de recherche sur les semi-conducteurs, Département de physique, Université de Warwick, déclare : « Les semi-conducteurs traditionnels à haute mobilité comme l’arséniure de gallium (GaAs) sont très coûteux et impossibles à intégrer à la fabrication principale au silicium. Notre nouveau matériau quantique de germanium sous contrainte de compression sur silicium (cs-GoS) combine une mobilité de classe mondiale avec une évolutivité industrielle, une étape clé vers les circuits intégrés à grande échelle quantiques et classiques pratiques. »

La percée a été réalisée en concevant soigneusement une fine couche de germanium sur une plaquette de silicium. En appliquant juste la bonne quantité de contrainte à la couche de germanium, ils ont créé une structure cristalline ultra-propre qui permet à la charge électrique de circuler presque sans résistance.

Retrouvez facilement Enerzine dans les actualités Google. G Ajouter Enerzine

Lors de l’évaluation, le matériau a démontré une mobilité des trous record de 7,15 millions de cm² par volt-seconde, ce qui signifie que la charge peut y circuler beaucoup plus facilement que dans le silicium. Cela pourrait permettre aux futures puces de fonctionner plus rapidement et de dissiper moins d’énergie.

Le Dr Sergei Studenikin, Agent de recherche principal, Conseil national de recherches du Canada, ajoute : « Cela établit une nouvelle référence pour le transport de charge dans les semi-conducteurs du groupe-IV – les matériaux au cœur de l’industrie électronique mondiale. Cela ouvre la porte à une électronique plus rapide et plus économe en énergie ainsi qu’à des dispositifs quantiques entièrement compatibles avec la technologie silicium existante. »

La recherche établit une nouvelle voie pour une électronique ultra-rapide et à faible consommation, avec des applications potentielles couvrant le traitement de l’information quantique, les qubits de spin, les contrôleurs cryogéniques pour processeurs quantiques, l’IA et le matériel de centre de données avec des besoins réduits en énergie et en refroidissement.

Cette avancée marque également une étape majeure pour le Groupe de recherche sur les semi-conducteurs de Warwick, renforçant le leadership du Royaume-Uni en science des matériaux semi-conducteurs.

Article : Hole mobility in compressively strained germanium on silicon exceeds 7 × 106 cm2V-1s−1 – Journal : Materials Today – Méthode : Experimental study – Sujet : Not applicable – DOI : Lien vers l’étude

Source : Warwick U.

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Tags: electroniquegermaniummobilitequantique
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Scientists at the University of Warwick and the National Research Council of Canada have achieved and measured the highest “hole mobility” ever recorded in a silicon-compatible material.

Most modern semiconductors are fabricated of or on Silicon (Si), but as devices get smaller and denser, they dissipate more power and as a result, are reaching their physical limits. Germanium (Ge)— once used in the first transistors of the 1950s — is now making a comeback as researchers find new ways to harness its superior properties while keeping the benefits of silicon’s established manufacturing technologies.

In a new study, published in Materials Today, a team led by Warwick’s Dr Maksym Myronov achieved a major step towards the next generation of electronics — creating a material using a nanometre-thin, compressively strained germanium epilayer on silicon, that allows electrical charge to move faster than ever before in a material compatible with modern chipmaking.

Maksym Myronov, Associate Professor and leader of the Semiconductors Research Group, Department of Physics, University of Warwick says “Traditional high-mobility semiconductors such as gallium arsenide (GaAs) are very expensive and impossible to integrate with mainstream silicon manufacturing. Our new compressively strained germanium-on-silicon (cs-GoS) quantum material combines world-leading mobility with industrial scalability — a key step toward practical quantum and classical large-scale integrated circuits.”

The breakthrough was achieved by carefully engineering a thin germanium layer on top of a silicon wafer. By applying just the right amount of strain to the germanium layer, they created an ultra-clean crystal structure that allows electrical charge to flow almost without resistance.

When evaluated, the material demonstrated a record hole mobility of 7.15 million cm² per volt-second (compared to *** in industrial silicon), meaning charge can move through it far more easily than in silicon. This could enable future chips to run faster and dissipate less energy.

Dr Sergei Studenikin, Principal Research Officer, National Research Council of Canada adds: “This sets a new benchmark for charge transport in group-IV semiconductors – the materials at the heart of the global electronics industry. It opens the door to faster, more energy-efficient electronics and quantum devices that are fully compatible with existing silicon technology.”

The research establishes a new pathway for ultra-fast, low-power electronics, with potential applications spanning quantum information processing, spin qubits, cryogenic controllers for quantum processors, AI, and data-centre hardware with reduced energy and cooling demands.

This advance also marks a major milestone for Warwick’s Semiconductors Research Group, reinforcing the UK’s leadership in semiconductor materials science.

ENDS

The open-access article ‘Hole mobility in compressively strained germanium on silicon exceeds 7 × 106 cm2V-1s−1’ is published in Materials Today. DOI: https://doi.org/10.1016/j.mattod.2025.10.004

Notes to Editors

For more information please contact:

Matt Higgs, PhD | Media & Communications Officer (Press Office)

Email: Matt.Higgs@warwick.ac.uk | Phone: +44(0)7880 175403

About the University of Warwick

Founded in 1965, the University of Warwick is a world-leading institution known for its commitment to era-defining innovation across research and education. A connected ecosystem of staff, students and alumni, the University fosters transformative learning, interdisciplinary collaboration, and bold industry partnerships across state-of-the-art facilities in the UK and global satellite hubs. Here, spirited thinkers push boundaries, experiment, and challenge convention to create a better world.

Journal

Materials Today

DOI

10.1016/j.mattod.2025.10.004

Method of Research

Experimental study

Subject of Research

Not applicable

Article Title

Hole mobility in compressively strained germanium on silicon exceeds 7 × 106 cm2V-1s−1

Article Publication Date

1-Nov-2025

COI Statement

The authors declare that they have no known competing financial interests or personal relationships that could have appeared to influence the work reported in this paper.

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