Courant mai, Enel et Sharp ont signé ensemble un accord, en vue de parvenir à un partenariat stratégique dans le secteur photovoltaïque.
Le protocole d’accord conclu entre Sharp et Enel prévoit la construction d’une usine de fabrication de panneaux photovoltaïques sur le sol italien, utilisant exclusivement la technologie du silicium en couches minces de Sharp.
Cette usine dont la taille et la structure est actuellement en cours d’évaluation permettra de satisfaire la demande croissante en panneaux photovoltaïques sur le marché italien, mais aussi sur celui de l’Europe du Sud-Est et du bassin méditerranéen.
Sharp et Enel entendent également développer les parcs photovoltaïques pour arriver à une capacité totale de 161 MWc d’ici la fin de 2011. Une fois en service, ces champs solaires généreront plus de 220 GWh d’électricité par an, assez pour répondre aux besoins de 81 500 ménages et permettre d’éviter le rejet de 110 000 tonnes de CO2 par an.
Pour terminer, Enel est en train de tester sur le site de Catane (côte orientale de la Sicile), les nouvelles générations de concentrateurs photovoltaïques qui utilisent aussi la technologie Sharp.
